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試験研究設備一覧

1.光・電子・弾性波複合機能素子パターニング装置

設備機器名称 光・電子・弾性波複合機能素子パターニング装置
メーカ名  
型式  
仕様・性能
  1. １）電子描画装置
    加速電圧20ｋV、照射電流10-10A、描画サイズ0.2μm
  2. ２）紫外線露光装置
    使用マスクは3インチと4インチ、描画パターンサイズ1μm以上
  3. ３）プラズマリアクタ
    O2ガス、最大流量250ml/min、最大電力300W、レジスト除去とプラズマ酸素処理
  4. ４）スピンコーター
    最大回転速度8000rpm、最長回転時間99秒、レジスト塗布用
  5. ５）金属顕微鏡
    最大倍率1000％、最小倍率75％
  6. ６）オーブン１
    加熱温度300℃、レジストベーク用
  7. ７）オーブン２
    加熱温度380℃、プログラム制御可能、空気、窒素雰囲気、ポリイミド等材料のベーク用
用途 光・電子・弾性波複合機能素子のパターニング装置
購入年度  

2.単結晶自動Ｘ線回析装置

設備機器名称 単結晶自動Ｘ線回析装置
メーカ名 （株）リガク
型式
  1. １）X線回折装置部
    ベースユニット：AFC5S型、制御装置：XDC、送水装置：オーバーフロー型
  2. ２）電子計算機部
    電子計算機：VAX Station 3200、カラーモニタ：VR299、CRTモニタ：CIT224、
    レーザープリンタ：LN03S、ソフトウエア：AFC5、TEXSAN
仕様・性能
  1. １）単結晶試料の大きさ
    0.3～0.4mm角程度が最適であり、粉末結晶（多結晶）や薄膜結晶は測定には適さない。
  2. ２）測定時間
    一つの結晶につき２日～１０日
用途 単結晶にＸ線を照射し、回析されて出てくるＸ線の方位および強度を多数の反射面について自動測定する。これらのデータを基にして、格子定数や結晶系などの結晶学的データの決定やさらに詳しい解析による結晶内の原子配列や分子構造の決定ができる。
購入年度 1991年度

3.単結晶・粉末X線回析装置

装置機器名称 単結晶・粉末Ｘ線回析装置
メーカ名 （株）リガク
型式 RAD-ⅡVC
仕様・性能
  1. １）定格
    50ｋV-40mA(2kV)
用途 単結晶の回折写真と粉末結晶の回折パターンを測定する。通常は、回折写真で試料が良質の単結晶であることを確認した後、単結晶自動X線回折装置による測定を行う。また、粉末X線回折パターンは、物質の同定、定性・定量分析などに極めて有効である。
購入年度 1988年

4.回転対陰極形Ｘ線回析装置

装置・機器名称 回転対陰極形Ｘ線回析装置
メーカ名 （株）リガク
型式 RINT-2500VHF
仕様・性能
  1. １）定格
    60ｋV-300mA(18kV)
用途 本装置では回転対陰極を用いて強力なX線を発生させることができるため、微量な試料でも高分解能の回折パターンを測定することができる。粉末試料ばかりでなく、非結晶性試料についても測定を行うことができる。
購入年度  

5.表面・薄膜超精密構造解析装置

装置・機器名称 表面・薄膜超精密構造解析装置
メーカ名 （株）リガク
型式
  1. １）薄膜構造評価用X線解析装置：ATX-G
  2. ２）縦型高分解能ゴニオメーター：PDG-S
  3. ３）試料高温装置：SHT-1500
仕様・性能
  1. １）定格：５０ｋV／300mA
  2. ２）出射ビーム：平行ビーム、ビーム幅約0.84mm
  3. ３）光学系：４結晶モノクロメータ・コリメータ
  4. ４）電動軸：X、Y、Z、φ
  5. ５）試料加熱温度　　最高1500℃まで
用途 最先端の電子デバイス素材やセラミックス複合材料のような表面・薄膜構造を精密に解析するためのX線解析装置であり、面内結晶構造、格子歪み、膜厚、表面粗さ等を決定することができる。
購入年度 ２０００年度

6.機能性材料電磁気特性解析システム

装置・機器名称 機能性材料電磁気特性解析システム
メーカ名  
型式  
仕様・性能
  1. １）導電性測定部
    • ①導電性測定：10-7～105Scm-1
    • ②温度範囲：20K～1200℃（循環冷却、ヒーター）
    • ③電圧測定：1ｎV～30V
    • ④パス絶縁：100TΩ以上
    • ⑤磁場強度：15ｋG
    • ⑥電流印加：0.5pA～100mA
    • ⑦電圧ノイズ：50ｎV以下
  2. ２）誘電性測定部（液体誘電率も測定可能）
    • ①周波数範囲：100Hz～40GHｚ
    • ②周波数確度：10ppm
    • ③出力分解能：0.05dBm
    • ④周波数安定度：±7.5ppm
    • ⑤パワー確度：＋0.5ｄB
    • ⑥周波数分解能：１Hz
    • ⑦最大出力：－5ｄB
    • ⑧温度範囲：20K～1200℃
  3. ３）磁気測定部
    1. ①帯磁率測定範囲：±0.001～±250emu/FS
    2. ②ノイズレベル：2×10-6emu以下
    3. ③最大磁場強度：20ｋG
    4. ④測定モード：磁場掃引モードおよび温度掃引モード
    5. ⑤磁場精度：±1％
    6. ⑥測定感度：±2×10-6emu以上
    7. ⑦測定精度：±1％以内
    8. ⑧温度範囲：20K～800℃
  4. ４）試料加圧部
    1. ①圧力範囲：0～1.5Gpa
    2. ②温度範囲：室温～200℃（バンドヒーター２段式）
    3. ③圧力測定：ハイゼ圧力計
    4. ④試料容器内寸：Φ16×50mm
  5. ５）中央制御・解析部
    1. ①動作クロック：50MHz
    2. ②演算性能：50MHｚ
    3. ③インターフェース：GP-IB
用途 本システムは、各種機能性材料の電気的基本特性である、導電特性・誘電特性・磁気特性を測定し、そのデータを総合的に解析するための装置で、従来はそれぞれ別々の装置を用いて行われていた特性評価が、本システムでは単独で可能となる。
導電性の測定ではVan der Pauw法による導電率と、ホール測定により電子（正孔）濃度および移動度など半導体の基本パラメータを求めることができる。誘電性測定部では、通常の誘電体の評価だけでなく、近年注目されているマイクロ波領域での誘電特性も高精度・高確度で評価可能である。
このほかの本システムの大きな特徴は、磁気特性以外の全ての特性評価を、常温から一万5千気圧の超高圧下で行え、新規の機能性材料の探索研究に活用できる。
購入年度  

7.透過型電子顕微鏡

装置・機器名称 透過型電子顕微鏡
メーカ名 （株）日本電子
型式 JEM－2000EX
仕様・性能
  1. １）倍率：×4000～100万
  2. ２）加速電圧：80～200kV、電子回折
用途 試料内部のサブミクロンオーダーの微細構造を観察する。
購入年度 1987年度

8.走査型電子顕微鏡

装置・機器名称 走査型電子顕微鏡
メーカ名 島津製作所（株）
型式 SSX-550
仕様・性能
  1. １）倍率：×20～30万
  2. ２）加速電圧：0.5～30kV
  3. ３）二次電子分解能：3.5nm
  4. ４）分析可能元素：5B～92U
用途 試料表面の形状および構造元素の種類や分布状態を非破壊で調べる。
購入年度 2002年度

9.走査型プローブ顕微鏡

装置・機器名称 走査型プローブ顕微鏡
メーカ名 （株）セイコー電子工業
型式 SPI3700/SPA300
仕様・性能
  1. １）トンネル顕微鏡（STM）
    分解能　面内0.2nm、垂直0.01nm、走査範囲　最大0.8μm
  2. ２）原子間力顕微鏡（AFM）
    分解能　面内0.2nm、垂直0.01nm、走査範囲　最大150μm
  3. ３）摩擦力顕微鏡（FFM）
    AFMと同時測定が可能
用途 ミクロンオーダーの探針を用い試料表面上でこの探針を走査して、試料の微小表面の形状はもちろん表面の原子レベルでの観察を可能にする顕微鏡である。計測する物理量の種類によって、トンネル型顕微鏡（STM）、原子間力顕微鏡（AFM）、および摩擦力顕微鏡（FFM）として使用することができる。
購入年度 1993年度

10.フーリエ変換核磁気共鳴装置

装置・機器名称 フーリエ変換核磁気共鳴装置
メーカ名 日本電子（株）
型式 JNM-LA300型
仕様・性能
  1. １）観測周波数範囲
    29～31、36～122MHz：15N～31P核
    282～300MHｚ：1H、19F核
  2. ２）分解能
    0.2Hz以下
    ３）温度可変範囲
    -100～＋150℃
用途 分子の平面構造や立体構造の知見を得る。
購入年度 １９９７年度

11.３次元高速画像解析ネットワークシステム

装置・機器名称 ３次元高速画像解析ネットワークシステム
メーカ名 ハイスピードビデオシステム部：（株）ナック製
型式  
仕様・性能
  1. １）ハイスピードビデオシステム部
    1. ①カラーハイスピードビデオ：MEMRECAM　Ci
    2. ②撮像素子：1/2in　33万画素カラー素子
    3. ③録画速度：100～2,000画面/秒
    4. ④レンズ：標準、マイクロレンズ
    5. ⑤同期ユニット：V-715
    6. ⑥照明装置：ARRI　575W
  2. ２）画像解析ネットワーク部
    1. ①デジタル画像変換処理装置：ST-525
    2. ②専用ハードディスク：1.5MB/ｓ
    3. ③3D運動解析装置：MOVIAS　3D
    4. ④軌跡図作成：手動、マウス
    5. ⑤ネットワーク装置：SPARC　Station20
    6. ⑥端末機：3台
用途 機械の回転変動、衝撃振動、流体の噴流・旋回流れ現象、人体・ロボットの動作等を高速度撮影により3次元連続画像としてとらえ、それらの過渡現象および定常変動を解析し、動的挙動を解明することを目的とする。
購入年度 １９９７年度

12.超高周波電磁界測定サブシステム

設備機器名称 超高周波電磁界測定サブシステム
メーカ名 ヒューレットパッカード
型式 信号発生器83651B、S-パラメータテストセット8517B、高周波レシーバ8530A
仕様・性能
  1. １）測定周波数
    45MHｚ～26.5GHｚ
  2. ２）測定項目
    S-パラメータ（入出力インピーダンス、透過係数、反射係数）
  3. ３）表示機能
    スミスチャート、ポーラー表示等
用途 超高速光機能回路の構成素子および回路を評価・解析する。
購入年度 1998年度

13.運動機能測定解析システム

設備機器名称 運動機能測定解析システム
メーカ名  
型式  
仕様・性能
  1. １）運動動作測定解析装置
    • Ａ：2次元・3次元ビデオ動作解析装置
      1. ①ＣＣＤカメラ：38万画素／焦点距離8～40mm、
      2. ②VTR：VHS/S-VHS、
      3. ③パソコン：DOS/V（PⅡ450MHｚ/256MB/18.2GB/CD/MO/21inch/Win98）
      4. ④解析ソフト：DKH(Frame-DIAS for Windows)
    • Ｂ：フォースプレート
      1. ①プレート：600×900×100mm・X．Y/－10～10N　・Z/－10～20N
      2. ②パソコン：DOS/V（PⅡ450MHｚ/256MB/18.2GB/CD/MO/21inch/Win98）
      3. ③解析ソフト：DKH（IFS-4C/IFC-6C）
    • Ｃ：ＰＩＶフィールド計測装置
      1. ①カメラ解像度：768×480ピクセル
      2. ②ダブルフレームレート：15Ｈｚ
      3. ③1000ベクトル処理時間：0.3ｓ以下
  2. ２）運動代謝測定・解析装置
    • Ａ
      1. ①測定項目：TVE・ＴV1・VE・VI・RR・V02・VC02・R・FE02・FI02・他
      2. ②ガス分析計：測定ガス（O2・CO2）
      3. ③O2濃度計：ダンベル型酸素濃度計
      4. ④CO2濃度計：赤外線吸収式炭酸ガス濃度計
    • Ｂ：無線式心電図モニター
      1. ①測定項目：心電図・非観血血圧・Sp02
      2. ②表示部：9.4インチディスプレイ
      3. ③記録部：2ｃｈ/波形・トレンドグラフ・リスト
    • Ｃ：スポーツラクテートアナライザー
      1. ①サンプル量：全血25μL
      2. ②測定時間：60ｓ以内
      3. ③測定範囲：0.0～30mmol/L(0.0～270mg/dL)
      4. ④測定精度：0.01mmol/L(0.1mg/dL)
    • Ｄ：レーザー血流計
      1. ①チャンネル数：2ｃｈ
      2. ②レーザー：半導体レーザー（波長780nm）
      3. ③プローブ先端出力：約2mW
      4. ④測定項目：血流量・血液量・血流速度
用途
  1. １）一般人およびスポーツ選手の運動能力の測定・分析
  2. ２）高齢者や身体障害者などに対する運動能力の測定･分析
  3. ３）自立ロボット、介護ロボットなどの制御に応用される人の基本的動作データ収集
購入年度  

14.高圧超臨界流体系平衡物性測定装置

設備機器名称 高圧超臨界流体系平衡物性測定装置
メーカ名  
型式  
仕様・性能
  1. １）平衡セル（接触部）：材質　SUS316・カーボン・テフロン
    1. ①130℃、15MPa以下　：可視窓（20mmΦ）、6箇所、容量(500cc)
    2. ②400℃、50MPa以下　：可視窓（20mmΦ）、2箇所、容量(260cc)
  2. ２）接触方式
    1. ①130℃、15MPa以下　循環方式
    2. ②400℃、50MPa以下　流通方式
  3. ３）試料注入方式
    2連式高圧注入方式（循環方式の場合）
  4. ４）サンプリング方式
    循環定量採集方式（循環方式の場合）
  5. ５）圧力測定
    精密ブルドン管式圧力計・精密デジタル式圧力計
用途 高圧超臨界流体を含む多相系の各相の密度および組成を測定するためのもの。
購入年度 1999年度

15.３次元レーザードップラー流速計測システム

設備機器名称 ３次元レーザードップラー流速計測システム
メーカ名  
型式  
仕様・性能
  1. １）４Wアルゴンレーザー（昭和オプトニクス（株）、GGLG3482）
  2. ２）3次元光学部（TSI社、TRCF-3）
  3. ３）信号処理部（TSI社、IFA-755）
  4. ４）電動式3次元トラバース装置部（日本カノマックス(株)、K-111）
  5. ５）データ-解析装置部（Dell、OptiPlex GX1）
用途 物体周りの3次元の流速分布を非接触で計測する。なお、2次元測定も測定可。
購入年度 2000年度

16.機器損傷測定・同定解析システム

設備機器名称 機器損傷測定・同定解析システム
メーカ名  
型式  
仕様・性能
  1. １）損傷付与部（（株）島津製作所製、サーボパルサEHF-FB1-10LA）
    最大負荷：10ｋN（電気油圧サーボ）、最大周波数：50Hz
  2. ２）損傷測定部
    1. ①高速波形測定（日本パナメトリクス製、超音波パルサーレシーバー5058PR）
    2. ②計測用マイクロフォン（小野測器製、MI-1431）
    3. ③AE計測装置（日本フィジカルアコースティクス製）
      ※AE処理速度：2000個/秒
    4. ④画像測定部（島津理化製、CCD-F9000）
      　※撮像素子：90万画素
    5. ⑤データ転送部（ティアック製、DATデータレコーダRD-135T）
    6. ⑥データ解析装置（東陽テクニカ、マイクロFFTアナライザOR24J-ｋ450）
      　※ダイナミックレンジ：90ｄB
    7. ⑦データ解析ソフト（MMCコンピュータリサーチ製、spectra ProV3.32C
用途 機器や構造物に損傷が発生した場合に、その発生時期、その位置と大きさを音、歪み、画像や温度などの時系列データを計測する。本システムは、①人工知能を応用した同定技術開発、②新素材の変形挙動に関する研究、③損傷機器の温度挙動への画像処理の応用、および④マニュピレータを用いた損傷測定技術の開発等に活用されている。
購入年度 2000年度

17.未来型オフィス実験システム

設備機器名称 未来型オフィス実験システム
メーカ名  
型式  
仕様・性能
  1. １）サーバーシステム群
    SunEnterprise250, Sun NetraT1, AC200, Dell, PowerEdge6400, Compaq ProLiantDL320
  2. ２）クライアントシステム群
    Sony PCG-C1MRX VAIO, 日立WIA-100NB, RECORD RFID リーダ, DOCUPRINT280,
    大型液晶ディスプレイ（日立DL90-XG1）
  3. ３）テレビ会議システム
    Canon View Station128, TV(KV-29D1)
  4. ４）医療装置システム
    ベッドサイドモニター（BSM-4111）、2チャンネル高感度増幅器（MEG-2100)
用途 新しいライフスタイルの創造とその実現に関して「働く」、「学ぶ」、「健康」という3つのキーワードから、最先端のネットワークサーバー、各種情報機器、携帯端末などを組み合わせた統合システムを総合的に研究･開発するもの
購入年度  

18.複合集積化インテリジェント素子製造装置

設備機器名称 複合集積化インテリジェント素子製造装置
メーカ名 株)エイコー・エンジニアリング
型式 EBD-1600
仕様・性能 ３元式、Au、Ti、Ni、Al、Pd、Cr、Ge等金属薄膜の形成可能、膜厚制御精度　0.1nm
真空度　２×10-6　Troo
用途 In-situに半導体や金属の成膜を可能とする薄膜形成装置
購入年度 1998年度

19.酸化・拡散炉

設備機器名称 酸化・拡散炉
メーカ名 アサヒ理化製作所（株）
型式 ARF-150
仕様・性能 加熱温度1100℃、使用可能ガス　酸素、水素
用途  
購入年度 1998年度

20.酵素の探索・分離・精製・分析装置

設備機器名称 酵素の探索・分離・精製・分析装置
メーカ名  
型式  
仕様・性能
  1. １）酵素の探索装置
    (株)バイオット製　BMJ-01PI他
  2. ２）酵素分離・精製装置（菌体破砕装置、高速冷却遠心分離機、酵素精製装置他）
    アマシャムファルマシアバイオテク(株)製　AKTAエクスプローラー10S他
  3. ３）酵素・生成物分析装置（分光光度計、高速液体クロマトグラフィー他）
    （株）島津製作所製　LC-10システム他
用途
  1. １）主に菌の培養・同定するための酵素を産出する微生物を探索する
  2. ２）見出された微生物から必要とする酵素を分離・精製する
  3. ３）精製された酵素の触媒能力や反応生成物の同定、計測評価
購入年度 1998年度

21.シーケンシャル形高周波プラズマ発光分析装置

設備機器名称 シーケンシャル形高周波プラズマ発光分析装置
メーカ名 島津製作所(株)
型式 ICPS-7000
仕様・性能  
用途
  1. １）多種類低濃度金属イオンが共存している試料の定性および定量分析。
  2. ２）高分子素材から成るセンサー材料の特性評価
  3. ３）センサー材料からの可塑剤や抽出溶剤の溶出、金属イオンの吸着および脱着、共存化学物質の吸着等による機能劣化の解析
購入年度 1998年度

22.フーリエ変換マイクロ波分光装置

装置・機器名称 フーリエ変換マイクロ波分光装置
メーカ名  
型式
  1. １）マイクロ波発振装置（83640L）
  2. ２）真空装置（250/2000MおよびE2M40/EH500）
  3. ３）分子線発生装置（IOTA-1）
仕様・性能
  1. １）周波数分解能：数KHｚ
  2. ２）感度：ppmから数十ppb（分子に依存する）
  3. ３）周波数：4GHｚから36GHｚ
用途 気相での回転スペクトルの測定ができます。　　赤外分光計に比較して高分解能および高感度であるため、従来の測定では同定できなかった物質を推定することができる。例えば、非常に純度の高いガス中に含まれる不純物の同定などに利用可能。
購入年度 １９９８年度

23.ガスクロマトグラフ質量分析システム

設備機器名称 ガスクロマトグラフ質量分析システム
メーカ名 横河アナリティカルシステムズ(株)
型式 HP5973
仕様・性能
  1. １）キャピラリーガスクロマトグラフ
  2. ２）四重極質量分析計
  3. ３）試料自動注入装置付き
用途 微量有害化学物質の定性分析と定量分析を行う。本研究室では特に環境汚染や下水道処理過程での有害物質変化の測定を行っており、トリハロメタン、農薬、トリクレンなどの有機塩素系溶剤の分析を行っている。
購入年度 1998年度

24.音響信号解析装置

設備機器名称 音響信号解析装置
メーカ名 小野測器(株)
型式  
仕様・性能
  1. １）データ収録装置（DS-9110型、DS-0967型、DS-0970型など）
  2. ２）解析部（DS-0921型、DS-0925型、DS-0930型など）
    ３次元音響インテンシティ解析、ウイグナー分布とウエーブレット解析、1/1および1/3オクターブ分析、汎用FFT解析
  3. ３）入力部（NP-3210型、MI-1233型、MI－3110型など）
    音響インテンシティプローブ、マイクロホン、マイクロホンアンプ、加速度検出器、音圧位相校正器
用途 生活福祉環境におけるインテリジェント･センシングシステムの研究開発に使用するもの。具体的には、ハンディを負った人の発声や注意すべき音などを家屋内にて収録し、他の騒音から分離したり、音源の位置を推定するのに使用する。
購入年度 1998年度

25.時系列信号認識出力装置

設備機器名称 時系列信号認識出力装置
メーカ名  
型式  
仕様・性能
  1. １）音響・加速度認識出力部（小野測器製・NEC製　　Ds-9191、6D07、9G203S）
  2. ２）画像・超音波認識出力部（キーエンス製・長瀬産業　ｃｖ－100、UD-300、VTR　MV-1000）
  3. ３）A/D変換出力部（デイテル社製　PCI-416F2、416－J2）
用途 高齢障害者等の自立を援助する運動動作、行動のセンシングシステム、音環境のセンシングシステムなどにおいて、人と機械とが相互に意思疎通できるようなマルチ･モーダルヒューマンインターフェースの研究に利用する。
購入年度 1998年度

26.素子基本パラメータ評価装置

設備機器名称 素子基本パラメータ評価装置
メーカ名 SEMILAB社
型式 DLS-83D
仕様・性能  
用途 シリコンやガリウム砒素などの半導体と超伝導体、圧電素子、光分子、バイオなどの異なる材料を用いた複合集積素子の電流-電圧特性、容量-電圧特性などの電気的な基本パラメータを測定する。表面準位や格子欠陥などの物性値を把握することもできる。
購入年度 1998年度

27.素子寸法測定装置

設備機器名称 素子寸法測定装置
メーカ名  
型式  
仕様・性能
  1. １）膜厚計（KLA　Tencor社製　アルファステップ500）
    測定範囲5ｍｍ、精度　0.1nm
  2. ２）レーザー顕微鏡（レーザーテック(株)製　1LM15H）
    波長　440nm、倍率　7000倍、3次元測定可能、x・ｙ方向の精度0.5μｍ、ｚ方向の精度　1μｍ
用途 インテリジェント集積回路素子の深さ方向測定や3次元構造を名のオーダー制度で評価するために用いる。
購入年度 1998年度

28.ストリークカメラ

設備機器名称 ストリークカメラ
メーカ名 浜松ホトニクス（株）
型式 C2830-11
仕様・性能 波長範囲　200-850nm、ダイナミックレンジ＞1：100
時間分解能　10ｐｓ
用途 レーザーアブリエションによる成膜やプラズマプロセスなどレーザーパルスを用いたプロセス研究における分析あるいは監視装置として用いる。さらに、素子の微小・超高速な光信号の時間軸上での評価を行う
購入年度 1998年度

29.超高速オシロスコープ

設備機器名称 超高速オシロスコープ
メーカ名 ヒューレットパッカード
型式 54750A
仕様・性能
  1. ①周波数範囲
    　 広帯域　20GHｚ、狭帯域　50GHｚ
  2. ②立ち上がり時間
    　 広帯域　17.5ｐｓ、狭帯域　28.2ｐｓ
  3. ③ノイズ（RNS）
    　 広帯域　＜＝1ｍV、狭帯域　＜＝0.5ｍV
  4. ④最高4チャンネル、GPIBによる制御
用途 数10GHｚ異常の高周波成分を含む高速信号（フェムト秒オーダー）の測定に用いる。
購入年度 1998年度

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